光譜橢偏儀ES01
ES01系列是ELLITOP針對科研和工業環境中薄膜測量推出的高精度快速攝譜型光譜橢偏儀，波長范圍覆蓋紫外、可見到紅外。 ES01光譜橢偏儀基于高靈敏度光譜探測單元和光譜橢偏儀分析軟件，用于測量單層和多層納米薄膜的層構參數（如，厚度）和物理參數（如，折射率n、消光系數k，或介電函數ε1和ε2），也可用于測量塊狀材料的光學性質。
橢偏膜厚儀ESH
ESH系列是ELLITOP針對科研和工業客戶中薄膜測量推出的高精度、快速橢偏膜厚測量儀，集合了橢偏儀的高精度和膜厚儀的測量范圍廣、測量速度快、極小光斑（1μm）等特點，波長范圍覆蓋紫外、可見到紅外。儀器基于高靈敏度光譜探測單元和光譜橢偏儀分析軟件，主要用于測量單層和多層納米薄膜的層構參數(如，厚度)和物理參數(如，折射率n、消光系數k，或介電函數ε1和ε2)，也可用于測量塊狀材料的光學性質。
激光橢偏儀EMPro
EMPro系列是針對高端研發和質量控制領域推出的極致型多入射角激光橢偏儀。 EMPro系列可在單入射角度或多入射角度下對樣品進行準確測量?？捎糜跍y量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數k；也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數k；亦可用于實時測量納米薄膜動態生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數k。多入射角度設計實現了納米薄膜的絕對厚度測量。
光伏專用激光橢偏儀EMPro-PV
EMPro-PV是ELLITOP針對光伏太陽能電池高端研發和質量控制領域推出的專用型多入射角激光橢偏儀。 EMPro-PV用于測量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面減反膜鍍層的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系數k。 EMPro-PV融合多項量拓科技專利技術，采用單多晶一體化樣品臺技術，兼容測量單晶和多晶太陽電池樣品，并實現二者的瞬間輕松轉換。一鍵式多線程操作軟件，使得儀器操作簡單安全。
ET8100A
半導體產業是以半導體為基礎發展起來的一個產業，這個產業包括從半導體材料的提取、設備制造、芯片設計、制造到封裝測試的整個過程，涵蓋了從上游材料及設備提供、中游芯片設計及制造到下游終端應用的三大環節。半導體產業的核心技術包括芯片的研發和設計能力，對工藝控制能力和精密度要求較高，特別是隨著品圓尺寸的增加和芯片制程的先進化，對晶圓和芯片制造商的技術能力要求也將不斷增強。隨著半導體行業不斷實現摩爾定律，薄膜厚度越來越薄，芯片制造商必須實施有效的超薄電介質材料的過程監測。
膜厚儀EH100-X
EH100-X膜厚儀是應用于工業和科研領域中薄膜厚度常規測量的經濟型解決方案，儀器一鍵操作極其簡單，可測量從幾納米到數百微米厚的透明或半透明薄膜，一次測量1秒內完成。 EH100-X膜厚儀基于白光干涉反射光譜的測量原理。寬光譜光波0°垂直入射到樣品表面，在樣品基底和膜層之間發生干涉，反射光波由高靈敏度光譜陣列探測單元接收，采用專用軟件對光波的光譜反射率進行分析，得到樣品鍍層的膜厚信息。進一步，還可以通過分析得到膜層的其它物理信息（如，折射率、消光系數）。 儀器適合于工業和科研中的常規測量，可應用于多種薄膜鍍層工藝中，如化學機械拋光、化學氣象沉積、物理氣相沉積、旋涂成膜工藝等。
膜厚儀EH200-X
EH200膜厚儀是應用于工業和科研領域中微區薄膜厚度常規測量的經濟型解決方案，儀器一鍵操作極其簡單，可測量從幾納米到幾百微米范圍內的透明或半透明薄膜，一次測量1秒內完成。
紅外光譜橢偏儀
ES03A-IR 紅外光譜橢偏儀集成了高精度 、高分辨率的紅外傅里葉光譜（ FTIR ）和高靈敏度的光譜橢偏儀 ，光譜范圍覆蓋1.7到30um 。ES03A-IR 紅外光譜橢偏儀用于表征復雜膜系的化學、機械、電子、光學性能，可應用于光學鍍層、半導體、生物、化學工業， 以及材料研究等領域， 以及分子振動光譜范圍內的有機導體 、OLED 和聚合物等材料。北京量拓科技有限公司(ELLITOP SCIENTIFIC CO., LTD.)成立于2008年4月，是中國具有影響力的專業橢偏測量整體解決方案提供商。專業致力于橢偏測量的方法研究、技術開發、產品制造和銷售，并提供橢偏測試服務和橢偏測量整體解決方案。經過持續的創新發展，產品已應用于計量、工業質檢、研究開發等領域，服務于半導體、光伏、光電子、納米材料、光通訊、遙感等行業。
ELLITOP SCIENTIFIC CO., LTD. was established in April 2008 and is an influential professional provider of overall solutions for ellipsometry measurement in China. We are dedicated to the research, technical development, product manufacturing, and sales of ellipsometry measurement methods, and provide ellipsometry testing services and overall solutions for ellipsometry measurement. Through continuous innovation and development, the product has been applied in fields such as metrology, industrial quality inspection, research and development, serving industries such as semiconductors, photovoltaics, optoelectronics, nanomaterials, optical communication, and remote sensing.
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